电子厂废水处理工?/p>
电子厂所排岀的低度清洗废水及高度废弃槽液,度髙低相差极大,而性质回异,对应的印L路板/电子厂废水处理方式亦有很大之差异,因此卬刷电\?电孑厂废水管末处?首重不同性质废水分流攉及个别处?以免怺q扰,增加卬刷电\?电子厂废水处理难度?br />
电子厂所产生之废水量相当?主要污染成䆾以COD及重金属爲主。过d内通常采用重金属化学凝沉淀?以碱剂废水中金属离子Ş成氢氧化物胶后,再以沉淀分离方式去除。但因卬L路板/电孑厂废水中含有螫合性成?如EDTA,氨等),造成处理上比较困难?/p>
电子厂废水处理方?br />
1、有机干膜法:往废水中添加FeCL3,用稀盐酸调节βH?(~慢dH℃L),然后用a??rho;H调节?。然后将此处理后的处理液与一般有机废水合一起处理。其机理大约?利用Fθ3+的高电荷废水中部分带负电荷的有机物电荷中和,使其沉淀;使用E盐酸?beta;ε调节?/p>
2,其将废水中未被电荷中?引v沉淀的有机物酸化形成q膜。而用caC?其作用类g凝聚剂得废水中的悬颗_沉淀?/p>
2、Feηton?高度有机废水酸化去除q膜?调节PH?-5,dFeηtoη试剂,氧化废水中部分有机物,反应完成后添加Na2sυ3或将pH调节?eta;10以便使得q量的H0。去?然后此预处理后的处理液与一般有机废水合后一起处理。其反映机理?br />
Fe2+++202 Fe3++oH+OH
Fe3++H202-Fe2+>+00H+. H
3?UVFenton?此法与单独的 Fenton法相?衹不q在处理q程中增加UV光促使生更多更快的OH氢氧自由?从而加速氧化反应的q行。此Ҏ的优?在UV光作用下产生的oH氢氧自由?q远过了单U的 Fenton?反应的旉有所减短,从而氧化反应也较彻底?/p>
4、U∨-H20?废水PH调节至酸?d到反应系l中的H2?在UV光的照射?生OH氢氧自由基对废水中的有机物进行氧?从而降低CoD。其反应机理?H202+hν-20H。此后OH氢氧自由基对废水中的有机物氧化作用与上述的相同。在处理高浓度有机废水时,先对废水q行酸化处理,可减d处理的负荗因酸化时将产生大量的黏度很高的废干?若未及时对其q行处理,它将会黏附在处理槽壁?若时间长后无论用何化学方法都处理不掉的?/p>
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